姓名：劉洪超
性別：男
學(xué)歷：博士
職稱/職務(wù)：講師
地址：河南師范大學(xué)物理南樓515
電話：
E-mail：hcliu12@sina.cn
所在研究所/科室：光學(xué)與光信息工程研究所
研究領(lǐng)域：
微納光學(xué)方向，目前主要研究超分辨光刻及其在微納光學(xué)、光電子學(xué)中的應(yīng)用。
學(xué)習(xí)經(jīng)歷：
博士，中國(guó)科學(xué)院大學(xué)光電技術(shù)研究所，2015年9月-2018年7月
碩士，貴州大學(xué)，2012年9月-2015年7月
學(xué)士，山東理工大學(xué)，2008年9月-2012年7月
工作經(jīng)歷：
2018年8月至今，河南師范大學(xué)物理學(xué)院講師
教學(xué)工作：
主講《光電技術(shù)》、《傳感器技術(shù)與原理》
科研活動(dòng)：
主要論著：
1.H. C. Liu, W. J. Kong, Q. G. Zhu, Y. Zheng, K. S. Shen, J. Zhang and H. Lu, “Plasmonic interference lithography by coupling the bulk plasmon polariton mode and the waveguide mode”, Journal of Physics D, 53(13), (2020).
2. H. C. Liu, W. J. Kong, K. P. Liu, C. W. Zhao, W. J. Du, C. T. Wang, L. Liu, P. Gao, M. B. Pu and X. G. Luo, “Deep subwavelength interference lithography with tunable pattern period based on bulk plasmon polaritons”, Optics Express, 25(17), (2017).
3. H. C. Liu, Y. F. Luo, W. J. Kong, K. P. Liu, W. J. Du, C. W. Zhao, P. Gao, Z. Y. Zhao, C. T. Wang, M. B. Pu and X. G. Luo, “Large area deep subwavelength interference lithography with a 35 nm half-period based on bulk plasmon polaritons”, Opt. Mater. Express, 8(2), (2018).
獎(jiǎng)勵(lì)和榮譽(yù)：